❖ 产品介绍
H系列纯化器是通过采用合金加热在高温下工作的小型纯化器，与POU常温型纯化技术不同的是，常温型纯化器多是采用催化吸附技术，其仅依靠其表面吸附，而加热吸气剂合金技术则充分的利用了整个合金的体积容量，H系列加热型纯化器较POU型纯化器去除杂质效率更佳，并且可去除CH₄和N₂, 使用寿命更长。
❖ 产品特点
•流量范围0.2-150LPM | •可配置0.003微米过滤器 |
•出口气体中各杂质含量小于1ppb | •可设置电源、温度、寿命预警等自控功能 |
•可去除CH₄和N₂ | •可选配阀门、选配接口形式 |
•316L SS EP纯化罐 | •多型号可选 |
•可直接更换配件、无需返厂 | •根据客户需求定制各项参数 |
❖ 纯化能力
可去除H₂O、O₂、CO、CO₂、H₂、NMHC、N₂、CH₄等杂质<1ppb （气源品质≥5N）
可提供酸、碱、难熔化合物的去除
适用气体N₂、H₂、O₂、Ar、He、Xe、CDA、CO₂、CH₄等
❖ 产品选型
可选柜体式或壁挂式 | |||
型号 | 最大流量(SLPM) | 接口形式 | 最大压差(MPA) |
EGH001 | 0.2 | 1/8" | 0.05 |
EGH003 | 5 | 1/4"VCR | 0.05 |
EGH050 | 50 | 1/4"VCR | 0.05 |
EGH075 | 75 | 1/4"VCR | 0.05 |
EGH100 | 100 | 1/2"VCR | 0.05 |
EGH150 | 150 | 1/2"VCR | 0.05 |
▶ 备注：表格中仅列出标准型号的指标和配置，更多特殊要求请与工厂联系
❖ 应用领域
•大规模集成电路制造 | •光纤预制棒生产 |
•半导体分立器件制造 | •众多半导体工艺设备配套 |
•大尺寸硅片、衬底、外延片生产 | •超高纯气体、混合气体和标准气体生产 |
•LED、激光器制造 | •吹扫气体、载气及零点气体纯化 |
•平板显示器生产 | •大学和研究所等科研机构产品研发 |
•高效太阳能电池生产 | •医药及食品行业 |
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